Hafnium ingot

Shaanxi Zhongheng Weichuang Bahan logam Co ., ltd . terletak di zon pembangunan berteknologi tinggi Baoji City, Provinsi Shaanxi . Titanium, nikel, zirkonium, hafnium dan aloi mereka, serta produk yang diproses yang mendalam seperti crucibles, cincin asas, tiub pelindung, bahan sasaran, skru, dan lain
 

 

 

Pengenalan ringkas

01.

Bidang aplikasi dan prospek pembangunan

Kawasan Permohonan: Dibahagikan kepada empat bidang utama: bahan sasaran semikonduktor dan sputtering, industri suhu tinggi/vakum, anod kapasitor, dan kejuruteraan anti-karat . Jelaskan nilai permohonan .

 

Prospek Pembangunan: Melihat ke arah trend pembangunan teknologi dari empat arah: peningkatan kesucian, saiz berskala besar, inovasi proses, dan kemampanan .

02.

Proses penyediaan dan langkah berjaga -jaga

Proses Penyediaan: Pengenalan terperinci tiga proses pengeluaran arus perdana (kaedah lebur rasuk elektron, proses kombinasi peleburan elektron pengurangan karbon, kaedah lebur plasma), dan perbandingan ciri -ciri proses melalui jadual .

 

Perhatian: Menganalisis perkara utama dalam pengeluaran dari tiga aspek: perlindungan keselamatan, kawalan kualiti, dan kawalan proses, dan menyenaraikan risiko tertentu dan langkah kawalan .

Tantalum ingot adalah ingot logam yang berkepala tinggi yang dibentuk oleh peleburan dan penyucian logam jarang logam tantalum (TA), dan merupakan bahan asas teras dari rantaian industri pemprosesan bahan tantalum . logam tantalum mempunyai satu siri sifat fizikal dan kimia yang luar biasa: titik leburnya setinggi 3017 darjah, ranking keenam; Ketumpatan adalah 16 . 65 g/cm ³, yang tergolong dalam logam graviti spesifik yang tinggi; Pada masa yang sama mempunyai kemuluran yang sangat baik dan prestasi pemprosesan mekanikal . Ciri-ciri ini menjadikan tantalum memasukkan bahan kunci yang sangat diperlukan untuk pembuatan mewah.

Dari segi mikrostruktur, jongkong tantalum yang berkualiti tinggi mesti memenuhi piawaian kesucian yang ketat . mengikut piawaian industri, kesucian tantalum yang digunakan untuk bahan sasaran semikonduktor mesti mencapai 99 {12} hingga 10ppm, oksigen (o) kurang daripada atau sama dengan 15ppm, nitrogen (n) kurang daripada atau sama dengan 15ppm, hidrogen (h) kurang daripada atau sama dengan 2ppm; Kotoran logam titik lebur yang tinggi seperti niobium (nb) kurang daripada atau sama dengan 2ppm, tungsten (w) kurang daripada atau sama dengan 1ppm, molibdenum (mo) kurang daripada atau sama dengan 1ppm; Unsur -unsur radioaktif uranium (u) dan thorium (th) masing -masing kurang daripada atau sama dengan 0 . 001ppm . Jumlah kekotoran logam (tidak termasuk unsur gas) tidak boleh melebihi 10ppm. Pada masa yang sama, jongkong tantalum perlu mempunyai struktur bijirin yang seragam dan padat, dengan kekerasan Vickers (HV/9.8N) kurang daripada atau sama dengan 85, ketumpatan dalam julat 16.5-16.6 g/cm ³, dan kawalan ketat kecemasan kecacatan ultrasonik di bawah 1%.

Jongkong tantalum yang dihasilkan secara industri biasanya mempunyai bentuk silinder atau segi empat tepat, dengan permukaan kelabu metalik yang unik . mengikut penggunaan akhir yang berbeza, julat diameter tantalum ingots berbeza dari 200mm hingga 450mm, dan berat boleh mencapai 300kg {4} kecacatan yang dihasilkan semasa proses pemutus .

Di sisi permohonan, aplikasi bernilai tinggi dalam jongkong tantalum masih tertumpu dalam tiga bidang utama: sasaran sputtering semikonduktor, peranti vakum yang tinggi, dan presentum yang tinggi, dan membuktikan bahawa proses ke arah penyesuaian dan fungsionalisasi . perusahaan yang menguasai teknologi penyediaan teras dan model ekonomi pekeliling susun atur akan menduduki kelebihan strategik dalam rantaian industri Tantalum global .

Cool tags: Hafnium Ingot, China Hafnium Ingot Pengilang, Pembekal, Kilang, aloi tantalum untuk komponen reaktor