Niobium Sputtering Sasaran
Niobium Sputtering Target adalah bahan yang digunakan dalam proses salutan sputtering, terutamanya untuk membentuk filem nipis pada substrat. Bahan sasaran Niobium mempunyai kesucian yang tinggi, kualiti filem oksida seragam, rintangan suhu tinggi, dan rintangan kakisan, dan digunakan secara meluas dalam pelbagai bidang seperti aeroangkasa dan peranti perubatan.
Description/kawalan
Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. terletak di zon pembangunan teknologi tinggi Baoji City, Provinsi Shaanxi. Syarikat ini terutamanya menghasilkan profil yang diproses konvensional seperti plat, jalur, foil, rod, wayar, dan paip yang diperbuat daripada tantalum, niobium, hafnium, tantalum tungsten aloi, niobium hafnium aloi c103 Skrin penebat, elemen pemanasan, badan relau (relau pemanasan, relau penyepuhlindapan), dan peralatan tahan kakisan.
Parameter Spesifikasi dan Jenis Bahan Sasaran
Spesifikasi saiz
Diameter sasaran bulat: Saiz standard termasuk diameter 25.4mm, 50.8mm, 76.2mm, 101.6mm, 127mm, dan 152.4mm. Diameter disesuaikan boleh diperluaskan kepada 20-400 mm.
Saiz sasaran persegi: ketebalan 1-20 mm x lebar 10-1000 mm x panjang 200-2000 mm (menyokong penyesuaian bukan standard).
Panjang sasaran berputar: Sehingga 1500mm, yang memerlukan mengikat kepada backplate tembaga bebas oksigen.
Jenis Bahan Sasaran
Sasaran rata: substrat bulat/persegi, sisihan kebosanan kurang daripada atau sama dengan 0. 2mm.
Sasaran berputar: Struktur silinder, sesuai untuk kawasan besar. peralatan salutan.
Bahan sasaran komposit:
Backplate mengikat tembaga: ketebalan lapisan tembaga {{0} mm, porositi antara muka kurang daripada atau sama dengan 0.1%.
Sasaran aloi (seperti TANB20): nisbah tantalum niobium laras (TA =80: 20/70: 30/60: 40).
Kawasan Permohonan Teras
1, pembuatan semikonduktor dan cip
Lapisan Lapisan/Halangan Konduktif: Bahan sasaran kemerosotan tinggi 4N (lebih besar daripada atau sama dengan 99.99%) digunakan sebagai lapisan penghalang penyebaran untuk interkoneksi tembaga dalam cip, menyokong pengurangan cip 5G.
Peranti Penyimpanan: Lapisan magnet cakera keras (HDD) dan pemendapan filem perlindungan SSD untuk meningkatkan ketumpatan penyimpanan data.
2, industri khas dan penyelidikan saintifik
Peranti Fizik Nuklear: Lembaran Niobium tahan radiasi (ketebalan 0. 1-5 mm) digunakan untuk pengesan zarah dan komponen perisai.
Aeroangkasa: Salutan tahan suhu tinggi untuk bilah turbin (1700 darjah C keadaan kerja), rintangan kejutan terma yang sangat baik.
Peranti perubatan: Salutan biokompatibel, pengubahsuaian permukaan implan ortopedik.
3, Tenaga Baru dan Peranti Optik
Photovoltaic cells: Anti reflective layer/conductive layer, light transmittance>95%, meningkatkan kecekapan penukaran fotoelektrik.
Kaca penjimatan tenaga: Kaca bersalut rendah-E, kawalan refleksi inframerah, membina kadar penjimatan tenaga sebanyak 30%.
LIDAR: Filem anti reflektif optik LiDAR mengurangkan kehilangan penyebaran cahaya dan meningkatkan ketepatan isyarat.
Niobium sputtering sasaran bahan, sebagai bahan teras salutan berprestasi tinggi, telah menjadi komponen utama yang sangat diperlukan dalam bidang semikonduktor, tenaga baru, dan industri khas kerana rintangan suhu tinggi yang sangat baik, kestabilan kimia, dan penyesuaian fungsi. Pada masa akan datang, dengan peningkatan teknologi teknologi seperti cip 5G dan sel fotovoltaik, permintaan untuk bahan sasaran niobium yang tinggi dan disesuaikan akan terus berkembang, mempromosikan pembangunan proses penyediaan bahan ke arah ketepatan dan kehijauan yang lebih besar.
Cool tags: Niobium Sputtering Target, China Niobium Sputtering Sasaran Pengilang, Pembekal, Kilang, Besi niobium, serbuk tantalum untuk kapasitor
Hantar pertanyaan
Anda mungkin juga berminat
