Tantalum Sputtering Sasaran

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. terletak di zon pembangunan teknologi tinggi Baoji City, Provinsi Shaanxi. Syarikat ini terutamanya menghasilkan profil yang diproses konvensional seperti plat, jalur, foil, rod, wayar, dan paip yang diperbuat daripada tantalum, niobium, hafnium, tantalum tungsten aloi, niobium hafnium aloi c103 Skrin penebat, elemen pemanasan, badan relau (relau pemanasan, relau penyepuhlindapan), dan peralatan tahan kakisan.

 

 

Penjelasan terperinci mengenai spesifikasi bahan sasaran tantalum sputtering

01.

Spesifikasi diameter/ketebalan

Spesifikasi diameter: Diameter standard biasa ialah 50mm, 50.8mm, 57mm, 60mm, 76.2mm, 80mm, 100mm, dan 101.6mm, dengan pelbagai penyesuaian 50-400 mm.
Spesifikasi ketebalan: Ketebalan asas biasanya 0. 1-50 mm (seperti 3mm menjadi nilai biasa), dan boleh terikat pada sasaran belakang tembaga (seperti lapisan tembaga 2mm atau 3mm) atau dilengkapi dengan gasket magnet untuk memenuhi keserasian peralatan tertentu.

02.

Gred Puriti/Bahan/Bentuk dan Penyesuaian

Tahap kesucian: Kesucian tinggi lebih besar daripada atau sama dengan 99.95% atau lebih besar daripada atau sama dengan 99.99%, sesuai untuk aplikasi gred semikonduktor.
Negeri Bahan: Menyediakan Negeri Annealed (M) atau Negeri Keras (Y) untuk memenuhi keperluan pemprosesan yang berbeza.
Bentuk dan penyesuaian: Menyokong penyesuaian sasaran rata, sasaran berputar, dan sasaran yang tidak teratur. Dimensi, toleransi (seperti kekasaran permukaan kurang daripada atau sama dengan 32RM), dan kaedah mengikat boleh direka bentuk secara fleksibel mengikut lukisan atau keperluan.
Gred Puriti/Bahan/Bentuk dan Penyesuaian

Ciri -ciri:
Titik lebur yang tinggi dan kestabilan kimia yang sangat baik: Tantalum mempunyai titik lebur 3017 darjah dan titik mendidih 5458 darjah. Ia tidak bertindak balas dengan Aqua Regia pada suhu bilik dan mempunyai rintangan kakisan yang sangat baik.
Ciri-ciri elektrik yang unik: Tantalum mempamerkan sifat elektrik yang sangat baik dan sesuai untuk proses sputtering mewah, seperti sputtering RF dengan ketumpatan kuasa sehingga 15W/cm ².
High temperature stability and low gas adsorption: maintaining a strength of>4 0 0mpa pada 500 darjah, dengan tenaga permukaan serendah 0.8j/m ², dengan berkesan menindas penjerapan gas AR dan meningkatkan kadar pemendapan filem.

Tujuan:
Pembuatan Semikonduktor: Sasaran Tantalum biasanya digunakan sebagai bahan penghalang untuk teknologi interkoneksi tembaga dalam litar bersepadu semikonduktor. Struktur bilayer tantalum/tantalum (TA/TAN) secara berkesan dapat memanjangkan masa kegagalan elektromigrasi hingga 10 jam.
Salutan Optik: Sasaran Tantalum digunakan untuk mengeluarkan filem nipis dengan sifat optik tertentu melalui teknik pemendapan wap fizikal (PVD) atau pemendapan wap kimia (CVD), dan digunakan secara meluas dalam peranti optik, paparan, dan sensor.
Peranti Perubatan: Tantalum mempunyai biokompatibiliti yang baik dan sesuai untuk implan perubatan seperti plat tulang dan prostesis bersama, mengurangkan tindak balas penolakan manusia.
Salutan Anti Kakisan: Oleh kerana rintangan kakisan yang sangat baik dari tantalum, ia digunakan untuk melengkapkan peralatan kimia dan permukaan logam yang terdedah kepada persekitaran yang melampau, memperluaskan hayat perkhidmatan peralatan.
Aplikasi lain: Bahan sasaran Tantalum juga digunakan dalam pembuatan media storan magnet, kepala pencetak inkjet, dan paparan panel rata.

Cool tags: sasaran tantalum sputtering, china tantalum sputtering sasaran pengeluar, pembekal, kilang, Tantalum untuk tangki kimia, rantaian bekalan bahan mentah Tantalum